EUV마스크 | 과학문화포털 사이언스올

EUV마스크

129

반도체 회로의 패턴을 구현하는 EUV 마스크

373

국내 최초 EUV 마스크 성능을 검사하는 장비를 개발한 연구자가 있다. 전 세계 최고의 성능을 갖고 있고 최첨단 반도체 공정에 활용할 수 있는 장비인데, EUV 장비 개발 연구의 성과를 산업화로 연계하는데 큰 획을 그었다.

115

EUV는 EUV 현미경을 통해 인위적으로 만들어야 한다. EUV 노광기술에서 가장 핵심적인 소재인 EUV 마스크는 반도체 회로 패턴의 설계도 역할을 하기 때문에 대한민국의 미래 경쟁력을 좌우할 최첨단 과학 기술의 핵심이다.