EUV기술

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국내 최초 EUV 마스크 성능을 검사하는 장비를 개발한 연구자가 있다. 전 세계 최고의 성능을 갖고 있고 최첨단 반도체 공정에 활용할 수 있는 장비인데, EUV 장비 개발 연구의 성과를 산업화로 연계하는데 큰 획을 그었다.

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EUV는 EUV 현미경을 통해 인위적으로 만들어야 한다. EUV 노광기술에서 가장 핵심적인 소재인 EUV 마스크는 반도체 회로 패턴의 설계도 역할을 하기 때문에 대한민국의 미래 경쟁력을 좌우할 최첨단 과학 기술의 핵심이다.

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안진호 교수는 EUV 국산화를 위해 노력해왔고, 국내 EUV 연구자들은 어려움을 겪을 때마다 그를 찾아온다. EUV 기술의 가치가 높아질수록 그의 책임도 높아진다. EUV 분야에 최고를 입증하기 위해 노력하는 안진호 교수를 만나본다.

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안진호 교수는 치열한 EUV 기술 경쟁에서 살아남기 위해 또 다른 기술을 개발하고 있다. 노광 공정 중 발생할 수 있는 마스크 오염을 효율적으로 제거할 수 있는 EUV 펠리클을 개발하여 반도체 생산 효율을 향상시킨 것이다.

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반도체 나노미터 경쟁 속에서 핵심 기술을 책임지고 있는 곳이 있다. EUV 극자외선 노광 기술을 통해 초미세 공정을 가능하게 하는 기술을 연구하는 곳을 살펴본다.