노광공정

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안진호 교수는 치열한 EUV 기술 경쟁에서 살아남기 위해 또 다른 기술을 개발하고 있다. 노광 공정 중 발생할 수 있는 마스크 오염을 효율적으로 제거할 수 있는 EUV 펠리클을 개발하여 반도체 생산 효율을 향상시킨 것이다.

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반도체 나노미터 경쟁 속에서 핵심 기술을 책임지고 있는 곳이 있다. EUV 극자외선 노광 기술을 통해 초미세 공정을 가능하게 하는 기술을 연구하는 곳을 살펴본다.